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산업용수 예산 3,862억원, 출자와 댐 증축으로 읽는 2027년 기후부 예산안

기후에너지환경부가 2027년 예산안을 전년보다 18.3% 늘어난 25조7,319억원으로 편성했다. 워터저널 보도에 따르면 역대 최대 규모이고, 반도체와 AI 데이터센터에 필요한 전력·용수 기반시설에만 1조9,351억원이 들어간다. 기사 제목만 보면 돈이 늘었으니 물과 전기가 제때 나올 것처럼 읽힌다. 현장에서 보면 다르다. 예산이 잡힌 해와 물이 배관을 타고 나오는 해는 같지 않고, 산업용수 예산 안에서도 공사비와 출자금은 성격이 전혀 다른 돈이다. 배경: 왜 중요한가 이번 예산안의 네 가지 축은 전력·용수 기반시설 확충, 에너지 대전환, 녹색전환, 기후재난 안전 확보다. 기후부 발표를 보면 첨단산업 전력·용수 1조9,351억원 가운데 전력이 1조5,489억원, 용수가 3,862억원이다. 전력 쪽은 수요유치형 변전소, 송전단 에너지저장장치(ESS), 전력망 지중화, 해상풍력 공동접속설비 같은 항목이 들어간다. 용수 쪽은 호남권 반도체산단 용수공급 1,196억원, 충청권 첨단산업 용수공급 81억원, 한국수자원공사 출자 2,500억원, 호남권 공공폐수 처리 85억원으로 구성된다. 물 수요가 커지는 이유는 두 갈래다. 반도체 공정은 미세 오염물질을 씻어내기 위해 초순수(불순물을 극한까지 제거한 공정용수)를 쓰고, 데이터센터는 서버 발열을 잡는 냉각에 물을 쓴다. 보조 자료로 삼은 『물론입니다 3: AI도 목이 마르다』가 짚는 지점이 정확히 이것이다. AI가 고도화될수록 열 발생량이 늘고, 그 열을 제어하는 냉각 과정에 물이 들어간다. 같은 매체에 소개된 해외조사보고서 제목에 따르면 전 세계 데이터센터의 25%가 물부족 지역에 위치한다. 입지와 수원이 어긋나는 문제는 해외만의 일이 아니다. 물 투자는 산업용수에만 쏠리지 않는다. 수질개선 예산은 74.7% 늘어난 5,986억원이고, 도시침수 예방 예산은 221억원에서 815억원으로 268.8% 증가했다. 전기차 보급 2조1,403억원, 재생에너지 금융지원 1조5,108억원 같은 큰 항목에 가려지지만, 물 쪽 증...

HBM 기술 격차, 숫자보다 중요한 건 '재현성'이다

지난 5월 국내 언론은 한국과 중국의 반도체 기술 격차를 숫자로 정리했다. 범용 D램과 낸드는 2~3년, HBM은 5년 이상. 다만 그 간격이 좁혀지고 있다는 단서가 붙었다. 기사만 보면 "5년이면 아직 여유가 있다"는 안도와 "곧 따라잡힌다"는 불안이 동시에 든다. 그런데 현장에서 공정을 만져본 사람에게 '기술 격차 5년'이라는 표현은 사실 거의 의미가 없다. 격차는 시간으로 재는 게 아니라 수율 곡선의 기울기로 재기 때문이다.

배경: 왜 중요한가

메모리 산업의 무게중심은 이미 이동했다. 과거 D램은 미세공정 노드와 셀 면적 축소가 경쟁의 전부였고, 낸드는 적층 단수 싸움이었다. 지금은 AI 가속기에 붙는 HBM이 메모리 업체의 영업이익률을 결정한다. 범용 D램 가격이 반토막 나도 HBM 물량을 확보한 업체는 버틴다. 그래서 'HBM 기술 격차'라는 말이 곧 '메모리 산업 주도권 격차'와 동의어처럼 쓰인다.

중국 쪽 숫자는 무시할 수준이 아니다. 낸드에서 YMTC는 270단 양산에 진입했고 글로벌 점유율은 두 자릿수에 근접했다. CXMT의 D램 점유율도 5%에서 8%대로 올라섰다는 관측이 나온다. 파운드리에서 SMIC는 성숙 공정을 넘어 7나노 수율 개선에 자원을 쏟는 중이다. 내수라는 거대한 완충지대와 정부 보조가 결합하면서, '기술이 부족해도 물량은 나온다'는 구조가 만들어졌다.

여기에 기사가 마지막에 던진 지적이 진짜 뼈아프다. 한 원로 교수는 "중국이 두려운 건 기술이 아니라 인재"이며, 인력 공급 면에서 한국은 10분의 1 수준이라고 말했다. 반도체는 장비를 사면 되는 산업이 아니다. 장비를 사서 3년간 실패한 로트를 해석해줄 사람이 있어야 하는 산업이다.

핵심: 일반 기사가 놓치는 지점

대부분의 기사는 '단수', '나노', '점유율'이라는 세 가지 스칼라 값으로 격차를 설명한다. 현장에서 이 숫자들은 결과 지표지 능력 지표가 아니다. 270단을 '만들 수 있다'와 270단을 '수율 90%로 매달 20만 장 뽑는다'는 완전히 다른 얘기다. 그리고 HBM 기술 격차의 본질은 정확히 이 두 번째 문장에 있다.

세부 포인트 1 — HBM은 소자 기술이 아니라 조립·계측 기술이다

HBM은 D램 다이를 12단, 16단으로 쌓고 TSV로 수직 연결한 뒤 로직 다이 위에 붙이는 구조다. 여기서 난이도가 튀는 구간은 셀 미세화가 아니라 후공정이다. 웨이퍼를 30μm 수준으로 갈아내면 휨(warpage)이 생기고, 본딩 압력과 온도 프로파일이 조금만 어긋나도 수십 μm 단위 정렬 오차가 누적된다. 12단을 쌓았는데 7번째 다이의 TSV 하나가 열렸다면, 그 스택은 통째로 버려진다. 단일 다이 수율이 99%라도 12단이면 이론 스택 수율은 0.99¹²다. 여기에 본딩 수율이 곱해진다.

그래서 HBM 경쟁력은 '한 번 성공했다'가 아니라 '실패 로트를 얼마나 빨리 원인 분해하느냐'로 갈린다. 열압착 본딩 장비의 프로파일, 언더필 소재의 유동 특성, 3D X-ray나 SAT 검사로 잡히지 않는 미세 보이드까지. 이건 논문으로 이전되지 않는다. 수천 번의 실패 로그와 그 로그를 읽는 엔지니어의 머릿속에 있다. 인재 격차가 곧 HBM 기술 격차인 이유다.

세부 포인트 2 — 격차는 '기간'이 아니라 '단계 통과 시간'으로 봐야 한다

'5년 격차'라는 표현은 선두가 5년간 멈춰 있다고 가정한다. 실제로는 선두도 매년 새 세대를 낸다. 의미 있는 지표는 따로 있다. 후발 주자가 (1) 엔지니어링 샘플 공개 → (2) 고객사 퀄 테스트 통과 → (3) 양산 수율 안정화 → (4) 재구매 물량 확보까지 각 단계를 통과하는 데 걸리는 시간이다.

낸드 적층에서 중국이 빨랐던 건 (1)→(3)이 짧았기 때문인데, 이는 낸드 스택이 자기 다이 안에서 끝나는 반면 HBM은 외부 로직 다이·인터포저·최종 패키지까지 물려 있어서다. HBM은 (2)단계에서 가속기 설계사의 신호무결성 검증을 통과해야 한다. 여기가 병목이고, 후발 주자가 자국 내수만으로는 돌파하기 어려운 구간이다. 반대로 말하면, 중국 가속기 업체가 자국 HBM을 채택해 (2)단계를 내부에서 소화하기 시작하는 순간 격차 계산식은 다시 써야 한다.

그래서 뭘 봐야 하나

투자 관점에서 '중국이 몇 년 뒤졌다'는 헤드라인은 거의 정보량이 없다. 대신 관찰 가능한 선행 신호들이 있다.

첫째, 중국 AI 가속기 업체의 메모리 벤더 채택 공시다. 자국 HBM이 자국 가속기에 실렸다는 신호는 단수 발표보다 훨씬 무겁다. 둘째, 후공정 장비 수입 통계다. TC 본더, 하이브리드 본딩 장비, 웨이퍼 박막화 장비의 대중국 반입 흐름은 규제와 우회 조달의 실질적 결과를 보여준다. 셋째, 소재·부품 쪽이다. HBM 기술 격차 논쟁에서 늘 빠지는 게 언더필 소재, 몰딩 컴파운드, 인터포저 기판인데, 이 영역의 국내외 공급사 실적은 스택 단수가 올라갈 때 가장 먼저 반응한다. 넷째, 인력 이동이다. 논문 저자 소속 변화, 학회 발표 주체, 해외 채용 공고 언어. 앞서 인용한 '10분의 1' 지적이 맞다면 이 지표가 가장 느리지만 가장 되돌리기 어렵다.

어느 것도 매수·매도 근거는 아니다. 다만 단수와 나노 숫자만 좇는 것보다는, 격차가 실제로 좁혀지는 물리적 경로를 보는 편이 오독을 줄인다.

마무리

HBM 기술 격차는 시간이 아니라 공정 재현성과 사람의 문제다. 숫자 발표는 단계 (1)을 알려줄 뿐, 돈이 오가는 단계 (3)과 (4)에 대해서는 거의 말해주지 않는다.

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